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新洁能沟槽栅MOS管在降低导通电阻上的技术优势?

更新时间:2026-07-24 17:07:00 发布人:南山电子 品牌:新洁能(NCE) 浏览量:147

新洁能沟槽栅MOS管降低导通电阻的技术优势,核心在于其屏蔽栅沟槽(SGT, Shielded Gate Trench) 技术和持续的平台迭代。这两项技术创新,让它在不增加芯片面积的前提下,实现了更低的导通电阻和更高的效率。南山电子是新洁能授权代理商,我们可为您提供新洁能(NCE) MOS管新洁能(NCE) IGBT管等产品。具体说到新洁能沟槽栅MOS管在降低导通电阻上的技术优势,我们认为主要有以下三个方面的技术优势:

 

屏蔽栅沟槽(SGT)技术

传统的沟槽MOS管是“挖个沟槽做通道”,而新洁能的SGT技术则在沟槽底部增加了一个屏蔽结构。这个设计改变了很多关键特性:

降低特征导通电阻(Rsp):通过优化电场分布,允许在更小的芯片面积上实现更低的导通电阻。例如,其第三代SGT产品的Rsp就比上一代降低了33% 到43.8%。

更佳的温度稳定性:在150℃的高温下,第三代SGT产品导通电阻的增量比上一代减少了16%,这意味着在高温工作时性能更稳定。

新洁能沟槽栅MOS管在降低导通电阻上的技术优势

持续的平台迭代

新洁能通过产品代际升级,不断挖掘降低导通电阻的潜力:

第三代SGT-MOSFET(Gen.3 SGT):这个平台可以视为技术路线的关键突破。通过引入更先进的工艺和三维沟槽结构创新,其品质因子(FOM=导通电阻×栅极电荷) 也大幅降低,这意味着在实现低导通损耗的同时,开关速度也更快。

第五代沟槽MOSFET(Gen.5 Trench):在传统沟槽工艺平台上,通过将元胞密度提升1.5倍以上等设计,让特定型号(如P30V)的特征导通电阻Rsp降低了46.88%。

 

技术优势的量化体现

新洁能的技术优势最终体现在以下核心参数上:

| 技术平台 | 关键指标 | 优化幅度 | 来源 |

| 第三代SGT (40V) | 特征导通电阻 (Rsp) | 较上一代降低33% |  |

| | 品质因子 (FOM) | 较上一代降低31% |  |

| 第三代SGT (150V) | 特征导通电阻 (Rsp) | 较上一代降低43.8% |  |

| 第五代Trench (30V) | 特征导通电阻 (Rsp) | 较上一代降低46.88% |  |

 

这些技术优势在汽车电子、AI算力、电机驱动等对功率密度和效率要求极高的领域非常有价值。目前,SGT MOSFET已成为新洁能的主力产品,早在2024年营收占比超过42%,年增长率达43%,市场认可度很高。